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Chiller主要用于半導體制程中對多路反應腔室的精準控溫，裝置由熱交換器、循環泵、壓縮機和控制系統構成，采用先進的控制算法，提高了chiller的穩定性、控溫精度和反應速度。在帶負載的情況下控溫精度可達±0.5℃，可在-20℃~85℃之間任意控溫，有良好的溫度穩定性。
Chiller半導體溫控設備主要用于半導體制程中對多路反應腔室的精準控溫，裝置由熱交換器、循環泵、壓縮機和控制系統構成，采用先進的控制算法，提高了chiller的穩定性、控溫精度和反應速度。
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