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普泰克 Implant氣體降溫系統,在Implant(離子注入)等核心前道工藝中,高能離子束轟擊產生的瞬時高熱負荷對晶圓表面的熱管理提出了更為嚴苛的要求。
普泰克 Implant氣體降溫設備,依托成熟的熱力學循環與精密自動化控制技術,旨在為半導體前道工藝提供穩定、潔凈的低溫氣體環境。
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