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普泰克 涂布顯影設(shè)備變頻氟化液冷卻機(jī),結(jié)合了變頻動態(tài)調(diào)節(jié)技術(shù)與電子級氟化液介質(zhì)的獨(dú)特物理化學(xué)性質(zhì),致力于為半導(dǎo)體及泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈提供高潔凈、高穩(wěn)定性的精密溫控解決方案。
普泰克 Photo/Track Chiller,是一款專為半導(dǎo)體光刻前道涂膠顯影(Track)工藝量身定制的核心溫控裝備。
普泰克 涂膠顯影水冷機(jī),依托其在精密熱管理領(lǐng)域的技術(shù)積累,致力于為半導(dǎo)體及泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的多個關(guān)鍵環(huán)節(jié)提供穩(wěn)定、可靠的溫度控制解決方案。
普泰克 光刻后蝕刻溫控,依托其在精密熱管理領(lǐng)域的技術(shù)積累,致力于為半導(dǎo)體前道核心制程提供穩(wěn)定、可靠的溫度控制解決方案。
普泰克 光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)溫控,依托于精密的熱力學(xué)設(shè)計(jì)與優(yōu)良的自動化控制算法,旨在為光刻機(jī)核心光學(xué)組件提供高度穩(wěn)定、無振動的恒溫環(huán)境。
普泰克 光刻機(jī)恒溫控制設(shè)備,是一款專為半導(dǎo)體優(yōu)良光刻制程量身定制的核心精密溫控裝備。在光刻工藝中,光學(xué)鏡頭、掩模臺、晶圓載臺及光源系統(tǒng)等核心組件對溫度極其敏感,微小的熱變形或折射率變化均可能導(dǎo)致線寬偏差與套刻誤差。
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