普泰克 涂膠顯影機溫控,涂膠顯影(Track)工藝是芯片制造中極為關鍵的一環,其內部的軟烤(Soft Bake)與硬烤(Post Exposure Bake, PEB)等工序對溫度的均勻性與穩定性要求。
普泰克 Implant氣體降溫系統,在Implant(離子注入)等核心前道工藝中,高能離子束轟擊產生的瞬時高熱負荷對晶圓表面的熱管理提出了更為嚴苛的要求。
普泰克 Implant氣體降溫設備,依托成熟的熱力學循環與精密自動化控制技術,旨在為半導體前道工藝提供穩定、潔凈的低溫氣體環境。
普泰克 離子注入氣體降溫設備,依托于成熟的熱力學與精密控制技術,旨在為半導體前道工藝提供穩定、潔凈的低溫氣體環境。
普泰克 離子注入氣體降溫系統,是一款專為半導體先進制程量身定制的精密氣體制冷裝備。在離子注入工藝中,高能離子束轟擊晶圓會產生巨大的瞬時熱負荷,對晶圓表面的熱管理提出了要求。
普泰克 離子注入(Implant)氣體降溫設備,依托于成熟的熱力學與精密控制技術,旨在為半導體前道工藝提供穩定、潔凈的低溫氣體環境。
Copyright © 2026 普泰克(上海)制冷設備技術有限公司版權所有 備案號:滬ICP備2021029247號-5
技術支持:化工儀器網 管理登錄 sitemap.xml